1.真空电阻蒸发镀膜设备

           ♦用于制备高质量功能薄膜、蒸镀电极等。

           ♦制备的薄膜具有优秀的均匀性和可重复性。

           ♦设备采用膜厚监控仪在线监测和控制蒸发速率、膜厚等参量。

2.磁控溅射镀膜设备

           ♦可以用于制备单层薄膜，配备直流及射频溅射电源。

           ♦可溅射金属、非金属、化合物及绝缘材料等。

           ♦主要用于制备金属氧化物绝缘层。

3.热测试设备

           ♦实现超低真空环境，同时温度可以在80K~750K的范围内调整。

           ♦为低维微纳米材料测量提供极限压强及合适温度。

           ♦可以配合电表进行自动化数据采集。

4.光学显微镜

           ♦可实现5倍至100倍放大，用于观察低维、微米尺寸实验样品。

5.紫外光刻设备

           ♦紫外光照射到附有光刻胶薄膜的基片表面，引起曝光区域的光刻胶发生化学反应。

           ♦再通过显影技术溶解去除曝光区域，使掩膜版上的图形被复制到光刻胶薄膜上。

           ♦最后利用刻蚀技术将图形转移到基片上。

6.手套箱

           ♦将高纯惰性气体充入箱体内，并循环过滤掉其中的水、氧、有机气体等物质

           ♦广泛应用于实现无水、无氧、无尘的超纯环境。

7.干燥箱+通风橱

           ♦干燥样品